UV光氧凈化技術(shù)工作原理：惡臭物質(zhì)能否被裂解，取決于其化學鍵鍵能是否比所提供的UV光子的能量要低。裂解反應的時間極短（＜0.01s），氧化反應的時間需2-3s。提供的UV光子總功率不夠或者含氧量不足，會因為裂解或氧化不完全而生成一些中間副產(chǎn)物，從而影響凈化效率。對于高濃度大分子的有機惡臭物質(zhì)體現(xiàn)得較為明顯。光催化氧化除臭設(shè)備的長期穩(wěn)定、高效，需要反應溫度＜70℃，粉塵量＜100mg/m3，相對濕度＜99%。條件滿足的情況下，光催化氧化除臭設(shè)備的凈化效率可達到95%以上。高效除惡臭：高效去除污染物以及各種惡臭味；脫臭效率可達95%以上；適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理；運行成本低：本設(shè)備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護；利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射有機氣體及空氣中的氧分子，裂解有機氣體的分子鍵，并分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，UV＋O2→O-+O＊活性氧O+O2→O3臭氧。游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子無害或低害的化合物，如CO2、H2O等，從而達到凈化氣體的效果，凈化能力可達99%